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蔡司光學外高橋項目

建設(shè)時間: 建設(shè)地點:上海外高橋

本項目位于位于上海市外高橋保稅區(qū),總占地面積約21118m2。總建筑面積16398m2,主要單體包括一座綜合生產(chǎn)樓、兩座門衛(wèi)、一座消防泵房及水池。

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