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上海日立電器有限公司科技大樓建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告

建設(shè)時(shí)間:2003年 建設(shè)地點(diǎn):上海金橋

該項(xiàng)目位于金橋出口加工區(qū)26#地塊內(nèi),新建大樓占地總面積1950平方。主要設(shè)置試驗(yàn)開發(fā)中心(技術(shù)人員辦公和試驗(yàn)加工設(shè)備用房)、信息管理中心及相關(guān)管理部門辦公樓??偼顿Y約5000萬。

獲獎(jiǎng)信息:

獲獎(jiǎng)項(xiàng)目名稱:上海日立電器有限公司科技大樓建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告

發(fā)獎(jiǎng)部門:中國(guó)輕工業(yè)勘察設(shè)計(jì)協(xié)會(huì)

獎(jiǎng)項(xiàng)等級(jí):工程咨詢?nèi)泉?jiǎng)

獲獎(jiǎng)年份:2004年

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